関数が急速に変化するところではより多くの点がサンプルとして取られる：

白い部分は関数が切り取られたことを示す．プロット範囲は自動的に選択される：

PlotRangeを使って関心領域に焦点を当てる：

PlotPointsとMaxRecursionを使って適応的サンプリングを制御する：

RegionFunctionを使って不等式が与える領域に曲面を限定する：

Exclusionsを使って不連続性を切断するかどうか，また，どこで切断するかを制御する：

枠とプロット全体にラベル加える：

等高線にラベルを付ける：

カラーバーを凡例として使う：

複数の関数については，線の凡例を使う：

複数の関数については，線の凡例をプレースホルダと一緒に使う：

陰的曲線に凡例を加える：

曲面に高さで色付けする：

等高線間に特定の色を使う：

等高線に異なるスタイルを使う：

等高線のスタイルを明示的に設定する：

オーバーレイメッシュを作成する：

プロットテーマを使う：

デフォルトで，AspectRatioは幅と長さに同じ長さを使う：

数値を使って縦横比を指定する：

AspectRatioAutomaticはプロット範囲から縦横比を決定する：

AspectRatioFullは他の構造物にぴったり収まるように縦横を調整する：

デフォルトで，ComplexContourPlotは軸の代りに枠を使う：

枠の代りに軸を使う：

AxesOriginを使って軸の交点を指定する：

個々の軸を個別に表示する：

デフォルトで，軸にはラベルは付けられない：

軸にラベルを置く：

軸ラベルを指定する：

軸の位置は自動的に決定される：

軸の原点を明示的に指定する：

軸のスタイルを変更する：

各軸のスタイルを指定する：

目盛と軸に異なるスタイルを使う：

ラベルと軸に異なるスタイルを使う：

曲面の縁の周りに赤い境界線を使う：

BoundaryStyleはRegionFunctionで切り取られた穴の周りに適用されるが，Exclusionsで切り取られた部分の周りには適用されない：

代りにExclusionsStyleを使う：

切り取られた部分を曲面の残りの部分と同じように示す：

切り取られた部分は空のまま残す：

切り取られた部分をピンクで塗り潰す：

曲面の上が切り取られた部分に緑を，下が切り取られた部分に赤を使う：

関数のスケールされた値で彩色する：

名前付きの色勾配を使う：

の等高線の上を赤でプロットする：

ColorFunctionはスケールされた座標にもスケールされていない座標にも使える：

等高線にラベルを加える：

枠が付いた値でラベルを付ける：

等間隔の10本の等高線を使う：

自動選択の等高線を使う：

自動選択の等高線を最高で5本使う：

特定の等高線を使う：

特定のスタイルの特定の等高線を使う：

関数を使って等高線の集合を生成する：

40%と80%のパーセンタイル値に等高線を置く：

複数の関数が指定されたときは，等高線の本数を個別に制御することができる：

複数の関数に特定の等高線を指定することができる：

自動陰影付けは，値が低いと暗く，高いと明るくなる：

Noneを使って等高線だけを示す：

関数のリストが指定されたときは，陰影付けは自動的にオフになる：

色関数を使って等高線の間に影を付ける：

等高線間の色の明示的なリストを使う：

デフォルトの等高線スタイルはある程度透明度がある線である：

破線の不透明な等高線を使う：

Noneを使って等高線が描かれないようにする：

ContourStyleNoneはContourLinesFalseに等しい：

赤と破線の等高線を交互に使う：

関数ごとに別のスタイルを使う：

方程式ごとに別のスタイルを使う：

すべての方程式に同じスタイルを使う：

ContourPlotは関数のサンプルを取っているところを示す：

Arg[ArcTan[z]]が何回評価されたかを数える：

除外された部分は自動的に表示される：

除外部分を計算しないように指示する：

除外部分を方程式として与える：

複数の除外集合を与える：

除外方程式の条件を使う：

自動的に計算された除外部分と明示的な除外部分の両方を使う：

赤い線を使って除外集合を示す：

除外された点を省略する：

ComplexContourPlotはデフォルトで枠を使う：

FrameFalseを使って枠が表示されないようにする：

左と右の辺に枠を描く：

左と下の辺に枠を描く：

枠の下の辺に沿ってラベルを置く：

枠ラベルはデフォルトで下と左の枠辺に置かれる：

枠の各辺にラベルを置く：

ラベルと枠目盛のラベルの両方のスタイルを指定する：

枠のスタイルを指定する：

各枠辺のスタイルを指定する：

枠目盛はデフォルトで自動的に置かれる：

目盛がない枠を使う：

下の辺に枠目盛を置く：

デフォルトで，上と右の辺には目盛は置かれるが目盛ラベルは付けられない：

Allを使って目盛ラベルをすべての辺に付ける：

指定の位置に目盛を置く：

指定の位置に指定のラベルを付けて枠目盛を描く：

目盛の長さをグラフィックスサイズとの割合で指定する：

各目盛の正と負の方向に異なるサイズを使う：

各枠目盛のスタイルを指定する：

枠辺の中点と極値に目盛を置く関数を構築する：

デフォルトで，目盛と目盛ラベルには枠と同じスタイルが使われる：

目盛の全体的なスタイルをラベルも含めて指定する：

各枠辺に異なるスタイルを使う：

Tiny，Small，Medium，Largeのような名前付きのサイズを使う：

プロットの幅を指定する：

プロットの高さを指定する：

特定のサイズまでの幅と高さを使う：

グラフィックスの幅と高さを指定し，必要な場合は空白で充填する：

AspectRatioFullとすると使用可能な空間が埋められる：

幅と高さに最大サイズを使う：

ImageSizeFullを使ってオブジェクト内の使用可能な空間を埋める：

画像サイズを使用可能な空間との割合で指定する：

関数が急速に変化する部分の等高線をより細かくする：

最初と最後のサンプリングメッシュを示す：

各方向に5つのメッシュレベルを使う：

Re[z]方向とIm[z]方向にメッシュラインを使う：

Abs[z]方向とArg[z]方向にメッシュレベルを使う：

赤いメッシュラインを使う：

Re[z]方向に赤いメッシュラインを，Im[z]方向には太いメッシュラインを使う：

高品質のプロットを生成する：

品質は犠牲にしても速度を優先する：

等高線領域についての凡例を表示する：

凡例は等高線に依存する：

各等高線のラベルを表示する：

連続的な色スケールを表示する：

PlotLegendsは自動的に色関数をマッチする：

PlotLegendsAutomaticは等高線にプレースホルダの値でラベルを付ける：

PlotLegends"Expressions"は等高線に対応する関数でラベルを付ける：

PlotLegendsAutomaticは陰的曲線にプレースホルダの値でラベルを付ける：

PlotLegends"Expressions"は実際の方程式を使う：

凡例用のラベルのリストを指定する：

Placedを使って凡例の位置を変える：

BarLegendを使って凡例の外観を変える：

より多くの初期点を使ってより滑らかな等高線を得る：

垂直範囲を自動計算する：

すべての点を使って範囲を計算する：

明示的な垂直範囲を使って特徴を強調する：

テーマを使う：

色関数を変える：

複数の関数についてテーマを使う：

アニュラス上にプロットする：

f 上の領域に基づく：

デフォルトで，プロットは各方向に線形スケールを持つ：

実方向と虚方向の両方に対数スケールを使う：

虚方向に逆数スケールを使う：

虚方向に小さい数が上になった線形スケールを使う：

関数とその逆関数で定義されたスケールを使う：

各軸に自動的に目盛が置かれる：

TicksNoneを使って目盛がない軸を描く：

軸には目盛を置くが, 軸には目盛を置かない：

指定の位置に目盛を置く：

指定の位置に指定のラベルを付けて目盛を描く：

片方の軸には特定の目盛と，もう片方の軸には自動目盛を使う：

目盛の長さをグラフィックスサイズとの割合で指定する：

各目盛の正と負の方向に異なるサイズを使う：

各目盛のスタイルを指定する：

軸の中点と極値に目盛を置く関数を構築する：

デフォルトで，目盛と目盛ラベルには軸と同じスタイルが使われる：

目盛の全体的なスタイルを目盛ラベルも含めて指定する：

各軸の目盛スタイルを指定する：

目盛ラベルと目盛に異なるスタイルを使う：

与えられた複素関数について，一定した実部の曲線をプロットする：

一定した実部と虚部の曲線を示す：

定数係数と定数引数の曲線を示す：

定数Abs[z]の曲線は同心円である：

Abs[z]==1と設定すると特定の円が与えられる：

定数Arg[z]の曲線は，原点から始まる（半）直線である：

Arg[z]==と設定すると特定の（半）直線が生成される：

アフィン関数を定義する：

の実部と虚部は傾きがそれぞれ1との直線である：

平面と 平面で定数の実部と虚部の直線を比較する：

逆関数 は，原点を中心とした円を原点を中心とした円に，原点を通る直線を原点を通る直線にマッピングするが，Abs[w]は の近くで大きくなる：

線形分数変換は円と直線を円と直線にマッピングする：

より複雑なマッピングを可視化する：

等角図 について， 平面の交点で直交する曲線は，対応する 平面の交点でも直交する：

の実部と虚部を計算する：

の実部と虚部の勾配が直交することを，両者のドット積が0であることによって確認する：

等高線が交点で直交することを視覚的に確認する：

非等角図は角度を維持しない：

の実部と虚部を計算する：

の実部と虚部の勾配が直交しないことを，両者のドット積が0ではないことを確認することで確認する：

等高線はが交点で直交しないことを視覚的に確認する：

InverseFunctionを使って等角図を表示する：

の実部と虚部は 方向に指数的に成長する：

両方のプロットで等高線が近付くところの急速な成長を観察する：

の係数もまた垂直方向に指数的に成長するが，引数はそうではない：

大きいAbs[y]については等高線が左側で近くなるが，右側ではそうではない：

Abs[Sin[z]]が急速に成長する領域を，等高線の本数を増やして強調する：

粘性減衰が y''+γ y'+y=f(t)である特定の調和振動子についての微分方程式．ただし，γ は減衰係数で f(t)は適応された力である．伝達関数は，y のラプラス(Laplace)変換の逆関数である：

不足減衰(γ=0.2)調和振動子につて伝達関数を定義する：

ボード線図を使って，虚軸に沿ったゲイン(Abs)と位相（度を単位としたArg）を見る：

ComplexContourPlotを使って 平面の部分集合上で伝達関数をプロットし， 近くの等高線の両集合の急速な変化を観察する：

カットオフ周波数 における二次バターワース(Butterworth)フィルタモデル：

フィルタの極を求める：

フィルタの強度をプロットして，フィルタの極が単位円上に角度で等間隔にあることを観察する：

虚軸と一致する等高線は，が，どんな周波数に対しても信号の強度は変えないが位相は変える全域通過フィルタであることを示す：

代数解析は のすべての値に対してゲインが1であることを示している：

伝達関数の強度のプロットの根軌跡図を示す：

複素平面上のすべての非零の に対して解析的な複素関数を定義する：

の実部と虚部が調和的であることを確認する：

関数 と は，理想流体流についての速度ポテンシャルとストリーム関数である．理想流体流の等ポテンシャル曲線と流線を円筒上にプロットする：

原点のスリットを通るチャンネル内の理想流体流についての複素ポテンシャルの流線をグラフにする：

ジェームズ クラーク マクスウェル(James Clerk Maxwell)による1873年の「電気磁気論」(A Treatise on Electricity and Magnetism)から，コンデンサを形成する2つの半無限平面の等電位面を示す有名な図 (Fig. XII)を再構築する：

これには の逆関数の異なるブランチが必要である：

上部をプロットする：

上部の等高線とマッチするように気を付けて，中間部をプロットする：

下部をプロットする：

これら3つを一緒にしてマックスウェルの図を再構築する：

ニュートン法の反復を示す：

ステップをプロットする：

関数について等高線をプロットする：

それらを一緒に示す：

レムニスケート族をプロットする：